با توجه به جایگاه ایران به عنوان یکی از مهمترین تولیدکنندگان انار در سطح جهان، حفاظت از این محصول استراتژیک در برابر چالشهای محیطی از اهمیت بالایی برخوردار است؛ بهویژه آنکه تنش شوری یکی از مهمترین عوامل محدودکننده تولید محصولات به شمار میرود. ریشه، به عنوان رکن اصلی گیاه، خط مقدم دفاعی در برابر نفوذ نمک به گیاه است و اختلال در عملکرد آن نه تنها منجر به کاهش کمی محصول میشود، بلکه کیفیت تولیدات را نیز به شدت تحت تأثیر قرار میدهد. بر همین اساس پژوهش حاضر جهت بررسی اثرات محلولپاشی نانوذرات کیتوسان و سیلیکون بصورت انفرادی و ترکیبی روی رشد ریشه نهالهای انار رقم ملس ساوه تحت تنش شوری در قالب طرح بلوک کامل تصادفی در سه تکرار اجرا شد. نتایج نشان داد بیشترین استحکام شبکه ریشه در محلولپاشی نانوذرات سیلیکون تحت شرایط نرمال بود. از طرفی کمترین میزان استحکام تحت شرایط تنش شدید و محلولپاشی با آب مقطر بود. اگرچه نتایج نشان داد که بسیاری از پارامترهای رشدی ریشه مانند بیشترین تعداد، عرض و عمق شبکه ریشه از نظر آماری تحت تاثیر شوری و محلولپاشی نانوذرات قرار نگرفت.
